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型号 名称 类型 PH 比重
(20℃,g/cm3)
沸点
(℃)
产品特点
EC6000 阻燃清洗剂 溶剂 7 1.05±0.05 >100 水基产品,气味小  ,对金属无腐蚀性  ,不含破坏臭氧层物质。
ER6000 离型剂 溶剂 7 NA NA 高固含的水溶性离型剂   ,不含任何溶剂。有效吸附各种颗粒    ,使用后可水洗性好    。
EC3009 划片液 水性 7 1.030±0.010 NA 由多种进口表面活性、缓蚀剂及其它助剂配制而成的浓缩型划片液。
EC7006 镭射保护液 水性 7 1.096±0.010 NA 配合研发生产定制半导体芯片  、光伏产业、TFT液晶显示  、金属    、玻璃    ,蓝宝石,陶瓷 ,PC复合板制程所需各类化工产品  ,方案定制提供配套技术及工艺支持 ,OEM和ODM技术服务商。
ET-106 负胶显影液 溶剂 NA NA NA 溶剂型显影液 ,高纯有机溶剂调配 。
ET-238 正胶显影液 水性 NA NA NA 无色的有机碱性水溶液 ,有特殊臭味   ,有腐蚀性    。
EC3000 边胶清洗剂 溶剂 7 0.920±0.010 NA 无色透明易挥发液体,易燃 ,有酯的香味   ,不溶于水 。
EC2030 去蜡液 溶剂 7 0.845±0.010 NA 采用独特的溶蜡剂 、渗透剂 、助溶剂、防腐剂等优质表面活性剂       ,经科学方法配制而成 。具有除蜡快速彻底  、润湿渗透能力强        、配比浓度低  、持效时间长 、防蚀效果优异,使抛光表面光亮无斑及水洗性好等特点。
ET1000 氧化铝抛光液 水性 7 1.02±0.010 >100 本产品属于纳米高纯阿尔法氧化铝抛光粉     ,晶相稳定、硬度高   ,有调制好的抛光液可以直接使用,客户也可以按自己的配方调配     。
EF6050 6um抛光液 水性/油性 7 0.990±0.010 >120 多晶金刚石具有自锐性和韧性  ,在抛光过程中   ,粗颗粒会破碎成更小的颗粒  ,可避免对工件表面造成划伤,而新的裂面具有更多锋利的切削棱  ,既保证了工件表面质量,又提高了研磨切削效率 ,在某些高质量要求的产品加工过程中显示出它独特的优越性  。
AR级 EL级 MOS级 RM-A级 丙酮/盐酸/硝酸/硫酸/磷酸/双氧水/无水乙醇/异丙醇 NA NA NA 无水乙醇-EL级  丙酮-MOS级  异丙醇-RM-B级 磷酸-EL级 盐酸-EL级 硫酸-MOS级 双氧水-RM-A级
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